3 µm 공정

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반도체 제조 공정
v  d  e  h

3 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 3 µm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1975년 경 인텔과 같은 반도체 회사가 달성하였다.

3 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품[편집]

각주[편집]

  1. Mueller, S (2006년 7월 21일). “Microprocessors from 1971 to the Present”. informIT. 2012년 5월 11일에 확인함. 
  2. http://www.listoid.com/list/142