본문으로 이동
주 메뉴
주 메뉴
사이드바로 이동
숨기기
둘러보기
대문
최근 바뀜
요즘 화제
임의의 문서로
기부
사용자 모임
사랑방
사용자 모임
관리 요청
편집 안내
도움말
정책과 지침
질문방
언어
이 위키백과에서 언어 링크는 문서 제목 건너편의 문서 최상단에 있습니다.
최상단으로 이동합니다
.
검색
계정 만들기
로그인
개인 도구
계정 만들기
로그인
로그아웃한 편집자를 위한 문서
더 알아보기
기여
토론
목차
사이드바로 이동
숨기기
처음 위치
1
1.5 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품
2
각주
목차 토글
목차 토글
1.5 µm 공정
10개 언어
العربية
English
Español
Français
Italiano
Português
吴语
中文
Bân-lâm-gú
粵語
링크 편집
문서
토론
한국어
읽기
편집
역사 보기
도구
도구
사이드바로 이동
숨기기
동작
읽기
편집
역사 보기
일반
여기를 가리키는 문서
가리키는 글의 최근 바뀜
파일 올리기
특수 문서 목록
고유 링크
문서 정보
이 문서 인용하기
위키데이터 항목
인쇄/내보내기
책 만들기
PDF로 다운로드
인쇄용 판
위키백과, 우리 모두의 백과사전.
반도체
소자
제조
MOSFET 스케일링
(
공정 노드
)
0
10 µm
– 1971
00
6 µm
– 1974
00
3 µm
– 1977
1.5 µm
– 1981
00
1 µm
– 1984
800 nm
– 1987
600 nm
– 1990
350 nm
– 1993
250 nm
– 1996
180 nm
– 1999
130 nm
– 2001
0
90 nm
– 2003
0
65 nm
– 2005
0
45 nm
– 2007
0
32 nm
– 2009
0
22 nm
– 2012
0
14 nm
– 2014
0
10 nm
– 2016
00
7 nm
– 2018
00
5 nm
– 2020
00
3 nm
– 2022
미래
00
2 nm
– 2024
하프 노드
집적도
CMOS
소자
(
멀티게이트
)
무어의 법칙
반도체
산업
나노전자
v
•
d
•
e
•
h
1.5 µm(
마이크로미터
) 공정
은 회로선 폭이 1.5 µm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1982년 경
인텔
,
IBM
과 같은 반도체 회사가 달성하였다.
1.5 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품
[
편집
]
1982년
출시된
인텔 80286
CPU
는 이 공정으로 만들어졌다.
[1]
각주
[
편집
]
↑
“History of the Intel Microprocessor - Listoid”
. 2015년 4월 27일에
원본 문서
에서 보존된 문서
. 2015년 4월 19일에 확인함
.
이 글은 기술에 관한
토막글
입니다. 여러분의 지식으로 알차게
문서를 완성해
갑시다.
분류
:
국제 반도체 기술 로드맵 리소그래피 노드
숨은 분류:
기술에 관한 토막글
모든 토막글 문서
내용 폭 제한 전환