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10 µm 공정

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10 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 10 µm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1971년에서 1972년 경 인텔과 같은 반도체 회사가 달성하였다.

10 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품

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각주

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  1. “History of the Intel Microprocessor - Listoid”. 2015년 4월 27일에 원본 문서에서 보존된 문서. 2015년 4월 19일에 확인함. 
  2. “History of the Intel Microprocessor - Listoid”. 2015년 4월 27일에 원본 문서에서 보존된 문서. 2015년 4월 19일에 확인함.