수소수
수소수(일본어: 水素水)는 일반적으로 초순수에 수소가 용존되어 있는 상태로 존재하는 것을 말한다. 삼투압을 이용해 초순수를 만들어내고, 진공을 유지한 상태에서 고압으로 수소 가스를 가하면 수소수를 얻는 것이 가능하다. 반도체 산업의 웨이퍼 공정에서 기판을 세척하는 데 이용된다. 수소수는 대기압에서 물에 용해되어 있는 상태로 존재하지 못하기 때문에 이 공정에서도 고압의 진공 상태를 유지해야 한다.[1]
각주[편집]
- ↑ 平田賢; 大橋一彦 (2008년 1월 1일). 《よくわかる水素技術(初歩と実用シリーズ)》 (일본어). 日本工業出版. 173쪽.
水素水超純水中に溶存しているが スを、中空糸膜を内蔵した脱気モジュールと真空ポンプを用いて取り除き この超純水に中空糸膜を内蔵したガス溶解を用いて水素ガスを 供給すると、高濃度の水素水が得られる。ジリコンウェハ、基板、フォ トマスク等を、この水素水にを添加し超音波照射により洗浄 すると、微粒子の除去、再付着防止、および酸化膜形成防止に非常に効果 的である。この洗浄方法は、従来の方法と。
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