일렉트로마이그레이션
이 문서의 내용은 출처가 분명하지 않습니다. (2013년 1월) |
전기전진 또는 일렉트로마이그레이션(electromigration)은 전도전자와 금속 속의 흩어져 있는 원자핵들 사이의 운동량의 전달로 인해 발생하는 도체 내의 지속적인 이온의 움직임에 의한 물질의 이동을 지칭하는 용어이다. 미소전자공학(microelectronics)과 같이 높은 직류 전류밀도가 사용될 때 이러한 효과는 매우 중요한 부분으로서 다루어 진다. 전자공학에서 집적회로와 같은 구조의 규모가 감소하면 실질적인 전기전진에 의한 효과가 증가한다.
역사[편집]
전기전진현상은 프랑스과학자 잘아딘에 의해 처음 발견된 이후로 100년 넘게 알려진 자연현상이었다. 하지만 실질적으로 이 현상이 주목받기 시작한 것은 1966년대에 들어 처음 집적회로가 만들어지면서부터이다. 전기전진현상은 갓 탄생한 반도체산업의 전반에 걸쳐 많은 연구자들의 헌신으로 연구되었다. 이중 가장 중요한 연구로는 후에 블랙의 방정식이라고 이름 붙여진 모토로라의 짐 블랙에 의해 발견된 것이였다. 그당시의 집적회로 내의 금속간의 연결은 불과 십여 마이크로 규모였다. 현재의 이러한 금속간의 연결은 수십에서 수백 나노규모로 감소되었다. 따라서 이러한 전기전진현상을 이해하는 것은 이 분야에서 점점 더 중요해지고있다.
이 글은 공학에 관한 토막글입니다. 여러분의 지식으로 알차게 문서를 완성해 갑시다. |